FZ Silicon Wafer félvezető

Az FZ szilícium ostya egy nagy tisztaságú szilícium lapka, amelyet általában a félvezetőiparban használnak. Az FZ a Float Zone rövidítése, amely az egykristályos szilícium termesztésének módszere.

Az FZ folyamat során egy szilícium rudat függőlegesen felfüggesztenek egy magas hőmérsékletű kemencében, és a rúd egy kis részének melegítésével olvadt zónát hoznak létre. Az olvadt zóna a rúd hosszában elmozdul, és ahogy lehűl, egykristálylá szilárdul meg. A folyamatot többször megismételjük, amíg a rúd teljes hossza egykristálygá nem alakul.

Az FZ szilícium lapkák tisztasága nagyon magas, a szennyeződések szintje jellemzően kevesebb, mint egy milliárd rész. Ez a tisztaság ideálissá teszi őket nagy teljesítményű elektronikus eszközökben, például mikroprocesszorokban, memóriachipekben és napelemekben való használatra. Az FZ lapkákat tudományos kutatásban, valamint nagy teljesítményű érzékelők és detektorok gyártásában is használják.